拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月,是由海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业,专业从事高端半导体薄膜设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次承担国家重大专项。2016年、2017年、2019年获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司。 公司拥有12英寸PECVD(等离子体化学气相沉积设备)、ALD(原子层薄膜沉积设备)、SACVD(次常压化学气相沉积设备)三个完整系列产品,拥有自主知识产权,技术指标达到国际同类产品先进水平,产品主要应用于集成电路晶圆制造,以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等高端技术领域。公司在北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的近40条生产线都设有技术服务中心,为客户提供每周7天,每天24小时的技术服务。 公司现有十余名海外专家,结合国内优秀人才,形成了一支以海外专家为带头人,以国内技术和管理骨干为基础的专业队伍,截止到2020年底,公司员工总数超过320人。拓荆通过多年技术积累,已形成自主知识产权体系,截止到2020年底,累计申请专利超470项,荣膺国家知识产权局颁发的“国家知识产权示范企业(2019-2022)”称号。 公司总部坐落于沈阳市浑南区,占地80亩,拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房,总建筑面积达40,000平方米。第一期生产能力可实现年产100台套,全部投产可达350台套设备,可以满足下游客户增产需求。公司已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证,并拥有覆盖全球的供应商网络。 拓荆公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟,为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。